ファインセラミックス
アルミナセラミックス
ジルコニアセラミックス
窒化珪素セラミックス
炭化珪素セラミックス
窒化アルミニウムセラミックス
サイアロンセラミックス
低熱膨張セラミックス
マシナブルセラミックス
マイカ系マシナブルセラミックス
(ホトベール・ホトベールL)
窒化物系マシナブルセラミックス
ホトベールⅡ・ホトベールⅡ-S

ファインセラミックス

高強度、高純度、耐熱性など、さまざまな機能を有し、半導体製造プロセスや一般産業機械部品として幅広い分野で使用されているセラミックス材料です。≫

アルミナセラミックス

エンジニアリングセラミックスの中で最も幅広く利用されているセラミックスであり、高い電気絶縁性、耐摩耗性、耐食性を示すとともにコストパフォーマンスにも優れます。
当社では主成分99.99%以上の高純度グレードやプラズマ耐性の高いグレードなどを取り揃えております。 ≫

ジルコニアセラミックス

ジルコニアセラミックスは結晶相を安定化させることで非常に高い強度、靭性を発現する材料です。
その優れた機械的特性を活かして刃物や粉砕装置部材などにも使われています。 ≫

窒化珪素セラミックス

高強度、高靭性なセラミックスであり、高温特性や耐熱衝撃性に優れます。
高負荷、高温環境など厳しい使用条件にも耐えうる材料です。
当社の窒化珪素セラミックスは半導体製造装置や一般産業機械向けに広く採用されております。 ≫

炭化珪素セラミックス

炭化珪素セラミックスは軽量かつ高ヤング率、高強度であり、構造材料として高いポテンシャルを持つ材料です。
耐磨耗性が求められる用途はもちろん、高荷重の使用条件でも厳密な寸法精度保持が可能です。
また、ある程度の電気伝導性を持つことから静電気拡散機能も発揮します。 ≫

窒化アルミニウムセラミックス

窒化アルミセラミックスの最大の特徴はその高い熱伝導性にあります。
また、高いフッ素プラズマ耐性やシリコン(Si)に近い熱膨張係数を示すなどユニークな特性もあわせもちます。
それらの特性を活かして放熱性を要する部品や半導体製造装置の耐プラズマ性部品など多くの用途に用いられております。
当社では高熱伝導グレードと高純度グレードを用意いたしております。 ≫

サイアロンセラミックス

サイアロンセラミックスは窒化珪素にアルミニウム原子(Al)と酸素原子(O)が固溶した材料で、低熱膨張、高強度であり高温特性や耐熱衝撃性に優れます。
半導体製造装置や一般産業機械などのほか高温構造材料としても幅広い用途があります。 ≫

低熱膨張セラミックス

低熱膨張セラミックスは常温下でゼロ膨張を示す材料であり、最も軽量なエンジニアリングセラミックスのひとつです。
そのユニークな特性を活かして半導体製造装置や精密機器の部品などに多く用いられています。≫

マシナブルセラミックス

一般の工作機械(旋盤、マシニングセンタなど)で容易に加工することができる超短納期に対応可能なセラミックスです。
半導体・液晶製造部品や検査治具は少量多品種にわたり、かつ設計から完成までのリードタイム短縮が要求されるなか、精密加工で活用されるセラミックスです。≫

マイカ系マシナブルセラミックス
(ホトベール・ホトベールL)

ガラス質をマトリックスとし、フッ素金雲母・ジルコニア微結晶を均一に析出させた緻密な複合マイカセラミックスで、電気絶縁性、耐熱性、断熱性に優れております。
中でも高反射率低熱膨張が特徴のホトベールLもあります。≫

窒化物系マシナブルセラミックス
ホトベールⅡ・ホトベールⅡ-S

低熱膨張であり、アルミナと同等の曲げ強さを有する機械加工性に優れた窒化物系マシナブルセラミックスです。
超精密加工が要求される構造材・絶縁部品や検査用部品などに最適です。
中でも、シリコンに近い熱膨張率を有した高強度の窒化物系マシナブルセラミックスのⅡ-Sもあり、半導体製造工程におけるシリコンの精密な保持部品や検査用部品などに最適です。≫

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